资源简介
摘要:本文件规定了硅抛光片表面颗粒的测试方法,包括测试原理、设备要求、样品制备、测试步骤和结果分析。本文件适用于硅抛光片生产和质量检测过程中对表面颗粒污染的定量评估。
Title:Test Method for Surface Particles of Silicon Polished Wafers
中国标准分类号:L80
国际标准分类号:25.160
封面预览
拓展解读
什么是 GBT 19921-2018 标准?
GBT 19921-2018 是中国国家标准,规定了硅抛光片表面颗粒测试的方法。该标准适用于半导体制造中对硅抛光片表面颗粒进行检测和评估,以确保产品质量符合要求。
为什么需要测试硅抛光片表面颗粒?
硅抛光片是半导体制造的重要基础材料,其表面颗粒的存在可能影响芯片的性能和可靠性。通过测试颗粒数量和尺寸分布,可以评估硅片的质量并优化生产工艺。
GBT 19921-2018 的测试方法有哪些?
如何选择合适的测试方法?
选择测试方法时需考虑颗粒尺寸范围和测试精度需求:
- 光学显微镜法适合检测较大颗粒(≥1 μm)。
- SEM 和 AFM 法更适合检测较小颗粒(≤0.1 μm),但成本较高。
GBT 19921-2018 中颗粒的定义是什么?
标准中定义颗粒为附着在硅抛光片表面或嵌入表面的异物,包括但不限于金属、氧化物、有机物等。
测试结果是否可以直接比较?
不可以直接比较。不同测试方法和设备可能会导致结果差异,因此应在同一条件下进行测试,并明确测试方法。
如何处理测试中的误差?
GBT 19921-2018 是否适用于所有类型的硅片?
该标准主要针对硅抛光片,不完全适用于其他类型硅片(如外延片或研磨片)。具体应用前需确认标准适用性。
颗粒测试的结果如何解读?
结果通常以颗粒的数量和尺寸分布表示。数量多且尺寸大的颗粒可能表明工艺存在缺陷,需进一步排查原因。
GBT 19921-2018 是否有国际对应标准?
目前没有完全对应的国际标准,但 ISO 209 和 SEMI M13 等标准在某些方面与其类似,可作为参考。