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    SJ 2154-1982 薄膜集成电路用微晶玻璃基片
    薄膜集成电路微晶玻璃基片材料标准性能要求测试方法
    15 浏览2025-06-07 更新pdf0.56MB 未评分
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    摘要:本文件规定了薄膜集成电路用微晶玻璃基片的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于薄膜集成电路用微晶玻璃基片的生产与验收。
    Title:Film Integrated Circuit Microcrystalline Glass Substrates
    中国标准分类号:L80
    国际标准分类号:29.040

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    SJ 2154-1982 薄膜集成电路用微晶玻璃基片
  • 拓展解读

    薄膜集成电路用微晶玻璃基片的研究与应用

    随着电子信息技术的快速发展,薄膜集成电路在现代电子设备中扮演着越来越重要的角色。为了满足高性能电子器件的需求,基片材料的选择成为关键因素之一。SJ 2154-1982 标准定义了薄膜集成电路用微晶玻璃基片的技术要求和测试方法,为相关领域的研究和生产提供了重要参考。

    本文将从微晶玻璃基片的特性、技术标准以及实际应用三个方面进行深入探讨,旨在为相关研究者和工程师提供理论支持和实践指导。

    微晶玻璃基片的特性分析

    微晶玻璃基片以其优异的物理化学性能而备受关注。以下是其主要特性:

    • 高机械强度:微晶玻璃基片具有较高的硬度和抗压强度,能够有效抵抗外界冲击。
    • 低热膨胀系数:这一特性使得基片在高温环境下仍能保持良好的稳定性,避免因热应力导致的结构变形。
    • 优良的电绝缘性:微晶玻璃基片的电绝缘性能显著,适合用于高精度电子器件。
    • 化学稳定性:基片对酸碱环境具有较强的耐受能力,延长了使用寿命。

    SJ 2154-1982 技术标准解析

    SJ 2154-1982 标准详细规定了微晶玻璃基片的生产要求和质量检测指标,包括以下几个方面:

    • 成分控制:明确微晶玻璃基片的主要成分比例,确保材料的一致性和可靠性。
    • 尺寸公差:严格限定基片的厚度、平面度和表面粗糙度等参数,以满足薄膜工艺的需求。
    • 表面处理:要求基片表面光滑无瑕疵,以便于后续薄膜沉积。
    • 性能测试:涵盖热膨胀系数、机械强度和电学性能等多个方面的测试方法。

    这些标准不仅为生产厂家提供了明确的指导,也为用户选择合适的基片材料提供了依据。

    微晶玻璃基片的实际应用

    微晶玻璃基片因其卓越的性能,在薄膜集成电路领域得到了广泛应用。以下是其典型应用场景:

    • 高频通信设备:微晶玻璃基片的低介电常数和低损耗特性使其成为高频通信设备的理想选择。
    • 传感器制造:由于其化学稳定性和耐腐蚀性,微晶玻璃基片被广泛应用于各种传感器的制造中。
    • 光电子器件:微晶玻璃基片的高光学透明性和热稳定性使其适用于光电子器件的封装。

    此外,随着微电子技术的进步,微晶玻璃基片的需求量逐年增加,其市场前景十分广阔。

    结论

    SJ 2154-1982 标准为薄膜集成电路用微晶玻璃基片的生产和应用提供了科学规范的指导。通过对其特性的深入研究和技术标准的严格执行,可以进一步提升基片的质量和可靠性,推动薄膜集成电路技术的发展。

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