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    TCSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
    多层金属薄膜层结构测量分析X射线光电子能谱表面分析
    21 浏览2025-06-02 更新pdf0.52MB 未评分
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  • 资源简介

    摘要:本文件规定了使用X射线光电子能谱(XPS)对多层金属薄膜的层结构进行测量和分析的方法,包括样品制备、测试条件设定、数据分析及结果评估。本文件适用于多层金属薄膜材料的成分、化学状态及界面特性的表征与分析。
    Title:Measurement and Analysis Method of Layer Structure for Multilayer Metal Films by X-ray Photoelectron Spectroscopy
    中国标准分类号:
    国际标准分类号:25.160

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    TCSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
  • 拓展解读

    TCSTM 01199-2024《多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱》相较于旧版标准,在XPS(X射线光电子能谱)数据处理和定量分析部分进行了显著优化。其中,关于“修正因子法”在实际应用中的改进是一个值得深入探讨的内容。

    在该标准中,“修正因子法”用于校正因不同元素原子轨道的电离截面、逸出几率以及检测效率等因素导致的信号强度偏差。新标准提出了更精确的计算公式:F_i = (I_i / A_i) × (S_i / I_i)。这里,F_i代表第i种元素的修正因子;I_i为实验测得的该元素信号强度;A_i为其原子百分比理论值;S_i则是标准化样品中该元素已知的标准信号强度。

    以实际案例说明此公式的使用:假设我们要测定某三层金属薄膜(Au/Ni/Cu)的厚度分布。首先制备参考样品并用XPS获得各元素的标准信号强度S_i。然后对测试样品进行XPS扫描,得到每种元素的实际信号强度I_i,并通过EDS或其他手段确定其原子百分比A_i。将这些数值代入上述公式即可计算出修正因子F_i。最后利用这些修正因子对原始数据进行调整,从而准确地推算出各层的厚度。

    这种改进使得修正因子法更加贴近实际情况,提高了测量结果的可靠性。同时,它也要求使用者具备较强的实验操作能力和数据分析技巧,确保数据采集的质量以及参数输入的准确性。此外,在具体应用时还需注意环境条件如真空度、温度等可能影响信号强度的因素,以便进一步提升测量精度。

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