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资源简介
摘要：本文件规定了半导体器件生产用扩散炉的通用技术条件，包括设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装和贮存等内容。本文件适用于半导体器件生产过程中使用的扩散炉。
Title：General Technical Requirements for Diffusion Furnaces Used in Semiconductor Device Manufacturing
中国标准分类号：M42
国际标准分类号：25.160 -
封面预览
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拓展解读
总结
SJ 1794-1981《半导体器件生产用扩散炉 通用技术条件》规定了用于半导体器件生产的扩散炉的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输和贮存等内容。
对比与老版本的变化
- 技术要求：
- 增加了对扩散炉环境温度适应性的要求。
- 提高了对设备稳定性和精度的要求。
- 试验方法：
- 引入了更先进的测试仪器和方法。
- 细化了某些关键参数的测量步骤。
- 检验规则：
- 加强了出厂检验的严格性。
- 新增了型式检验的具体项目。
- 标志、包装、运输和贮存：
- 更新了包装材料的要求以提高防护性能。
- 增加了运输过程中的注意事项。
- 技术要求：
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