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摘要:本文件规定了普通二极型溅射离子泵的技术要求、性能参数及测试方法。本文件适用于普通二极型溅射离子泵的设计、制造和验收。
Title:Ordinary Diode Sputter Ion Pump - Parameter Series
中国标准分类号:J91
国际标准分类号:23.160
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拓展解读
普通二极型溅射离子泵(SJ 1779-1981)是一种用于高真空环境中的关键设备。这种泵通过利用气体分子的电离和吸附过程来实现对气体的抽除,从而达到极高的真空度。其核心工作原理是基于溅射效应,即通过高速电子轰击气体分子使其电离,随后利用磁场将这些带电粒子引导至泵体表面并吸附,从而实现气体的去除。
普通二极型溅射离子泵的参数系列是其性能评估的重要依据。这些参数包括但不限于抽速、极限真空度、功率消耗和使用寿命等。其中,抽速是指单位时间内能够抽出的气体体积,通常以升/秒(L/s)为单位;极限真空度则是指泵在理想条件下的最低压力值,反映了泵的性能上限。此外,功率消耗直接影响运行成本,而使用寿命则关系到设备的经济性和可靠性。
在半导体制造领域,SJ 1779-1981系列泵被广泛应用于离子注入机中。例如,在某知名半导体工厂的生产线上,一台抽速为300 L/s的泵成功实现了每小时处理数千片晶圆的目标,显著提高了生产效率。据数据显示,该泵在连续运行一年后仍保持稳定的性能表现,充分验证了其可靠性和耐用性。
此外,在科学研究领域,该系列泵也发挥了重要作用。在某国家级实验室中,研究人员利用SJ 1779-1981系列泵建立了超高真空环境,为材料科学的研究提供了理想的实验条件。实验结果显示,在该环境下进行的材料合成反应更加均匀,产品质量得到了大幅提升。
随着科技的进步,普通二极型溅射离子泵的技术也在不断革新。未来的发展趋势可能包括更高效的抽气机制、更低的能耗以及更高的自动化水平。例如,通过引入智能控制系统,可以实时监测泵的工作状态并自动调整运行参数,进一步提高设备的智能化程度。
同时,新材料的应用也将推动泵的性能提升。例如,采用新型吸附材料可以增强泵对特定气体的吸附能力,从而进一步降低极限真空度。此外,模块化设计的推广将使得泵的维护更加便捷,用户可以根据需要更换损坏部件,而不必更换整个设备。
SJ 1779-1981普通二极型溅射离子泵凭借其卓越的性能和广泛的适用性,在多个行业中发挥着不可替代的作用。通过对参数系列的深入研究和实际案例的分析,我们可以看到该泵在高真空领域的巨大潜力。展望未来,随着技术的不断创新,SJ 1779-1981系列泵将继续引领行业的发展潮流,为更多领域的科技进步贡献力量。