TGVS 012-2023 光学真空镀膜职业技能评价规范

本文将聚焦于TGVS 012-2023《光学真空镀膜职业技能评价规范》中新旧版本在“镀膜工艺参数设定”方面的差异，并深入解析其实际应用。

在旧版标准中，对于镀膜工艺参数设定的规定较为笼统，仅提出需根据材料特性与设备条件调整相关参数，但并未给出具体指导。而新版标准则明确指出，在设定镀膜工艺参数时，应首先确定基片材质、镀膜材料及所需膜层性能，然后按照以下步骤操作：先依据经验公式初步设定参数，再通过实验验证优化。例如，当使用氧化铝作为镀膜材料时，要求初始真空度不低于5×10^-4 Pa，工作气压控制在0.6至1.0 Pa之间，离子源电流密度维持在0.5至1.0 mA/cm²范围内。

这种改变不仅提升了标准的操作性，还强调了理论与实践相结合的重要性。以某企业为例，他们在采用新版标准后，通过对上述参数的精确控制，成功将光学元件反射率从原来的90%提升到了98%，显著改善了产品的光学性能。这表明，严格遵循新版标准中的工艺参数设定流程，能够有效提高产品质量和生产效率。