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    TQGCML 2307-2023 光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求
    光刻胶四甲氧甲基甘脲低金属含量生产技术电子材料
    17 浏览2025-06-02 更新pdf0.24MB 未评分
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    摘要:本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产与检测,该产品主要应用于电子材料领域。
    Title:Technical Requirements for the Production of Tetramethoxymethyl Glycoluril with Low Metal Content for Photoresist
    中国标准分类号:G12
    国际标准分类号:25.060

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    TQGCML 2307-2023 光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求
  • 拓展解读

    本文以TQGCML 2307-2023中关于“金属离子含量检测方法”的变化为例进行分析。相较于旧版标准,新版对金属离子含量的检测提出了更精确的要求。

    在旧版标准中,对于金属离子含量的检测仅规定了使用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS),但未详细说明样品前处理过程。而在新版标准中,不仅保留了ICP-MS方法,还增加了微波消解法作为备选方案,并且明确了样品前处理的具体步骤:首先将样品置于聚四氟乙烯材质的消解罐内,加入适量硝酸后密封,在180℃条件下微波消解30分钟,冷却至室温后定容至50ml容量瓶中备用。此方法能够有效避免传统湿法消解可能带来的污染问题,确保检测结果更加准确可靠。

    这一改变体现了新版标准在实际应用中的科学性和严谨性,有助于提高光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲产品的质量控制水平。企业应严格按照新版标准执行,确保产品符合相关技术要求。

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