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    JBT 7505-1994 离子镀术语
    离子镀术语定义工艺薄膜
    12 浏览2025-06-08 更新pdf0.11MB 未评分
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    摘要:本文件规定了离子镀技术相关的术语和定义。本文件适用于离子镀技术的研究、开发、生产及应用领域。
    Title:Terms for Ion Plating
    中国标准分类号:H12
    国际标准分类号:25.220.01

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    JBT 7505-1994 离子镀术语
  • 拓展解读

    离子镀术语标准概述

    JBT 7505-1994 是一项关于离子镀技术的专业术语标准,用于规范相关领域的专业词汇和定义。该标准为从事离子镀及相关工作的技术人员提供了统一的术语参考。

    主要内容

    • 基本概念: 定义了离子镀的基本原理、设备组成及工作过程中的关键术语。
    • 工艺参数: 包括真空度、离子能量、沉积速率等影响离子镀质量的重要参数及其定义。
    • 涂层特性: 对涂层性能相关的术语进行规范,如附着力、硬度、耐磨性等。
    • 设备部件: 对离子镀设备中的核心部件(如离子源、靶材等)进行了详细的术语解释。

    与老版本的变化

    • 术语更新: 部分早期术语被重新定义或替换以适应现代技术发展。
    • 新增内容: 增加了一些新技术引入后的术语,例如“脉冲离子镀”、“反应离子镀”等。
    • 细化描述: 对原有术语的定义进行了更详细的说明,以便于实际操作中的应用。
    • 国际化趋势: 引入了一些国际通用的离子镀术语,便于国内外交流与合作。
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