资源简介
摘要:本文件规定了用电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。本文件适用于硅片表面金属元素含量的定量分析,尤其适用于超痕量金属元素的检测。
Title:Determination of metal element content in silicon wafer surface - Inductively coupled plasma mass spectrometry
中国标准分类号:J76
国际标准分类号:25.160
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拓展解读
在执行GB/T 39145-2020标准时,通过灵活调整和优化流程,可以在保证检测结果准确性的前提下降低成本并提高效率。以下是基于核心业务环节提出的10项弹性方案。
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