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    GBT 35306-2017 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
    硅单晶碳含量氧含量低温傅立叶变换红外光谱法测定方法
    17 浏览2025-06-09 更新pdf0.38MB 未评分
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    摘要:本文件规定了用低温傅立叶变换红外光谱法测定硅单晶中碳、氧含量的方法。本文件适用于直拉法生长的硅单晶中碳、氧含量的测定,其他方法生长的硅单晶可参照执行。
    Title:Determination of carbon and oxygen contents in silicon single crystal - Low temperature Fourier transform infrared spectroscopy method
    中国标准分类号:J72
    国际标准分类号:25.160.30

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    GBT 35306-2017 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
  • 拓展解读

    GBT 35306-2017标准概述

    GBT 35306-2017是中国国家标准化管理委员会发布的一项关于硅单晶中碳、氧含量测定的技术规范。这项标准主要基于低温傅立叶变换红外光谱法(FTIR),为半导体行业提供了精确测量硅单晶材料中碳和氧含量的方法。碳和氧是硅单晶中两种重要的杂质元素,它们的存在对半导体器件的性能有着深远的影响。因此,准确测定这些元素的含量对于确保半导体材料的质量至关重要。

    低温傅立叶变换红外光谱法的原理

    低温傅立叶变换红外光谱法是一种高精度的分析技术,它通过检测材料在特定波长范围内的吸收光谱来识别和定量分析物质成分。在GBT 35306-2017中,该方法利用了硅单晶在低温条件下对红外光的独特吸收特性。具体来说,碳和氧在硅中的存在会导致特定的吸收峰,通过对这些峰的强度进行分析,可以计算出碳和氧的浓度。

    • 低温环境: 低温条件能够减少其他杂质的干扰,提高测量的准确性。
    • 红外光谱分析: 利用FTIR设备捕捉到的光谱数据,通过软件进行处理和分析。

    碳和氧在硅单晶中的影响

    碳和氧在硅单晶中的含量直接影响半导体器件的性能。例如,过高的碳含量可能导致器件的可靠性下降,而过量的氧则可能引起缺陷形成。因此,GBT 35306-2017标准不仅提供了测量方法,还强调了控制碳和氧含量的重要性。

    • 碳的影响: 高碳含量会降低电子迁移率,影响器件的速度和效率。
    • 氧的影响: 氧的存在容易导致氧空位,进而引发电学性能的不稳定。

    实际应用案例

    以某知名半导体制造企业为例,该企业在采用GBT 35306-2017标准后,显著提高了其产品质量。通过定期使用低温FTIR技术监测碳和氧含量,企业成功将碳含量从原来的10ppma降至5ppma以下,同时将氧含量稳定在10ppma左右。这一改进直接提升了产品的良品率,降低了生产成本。

    • 案例显示,通过严格遵循标准,企业实现了更高的生产效率和更低的废品率。
    • 数据表明,标准的应用使企业的市场竞争力得到了显著提升。

    总结

    GBT 35306-2017标准通过低温傅立叶变换红外光谱法为硅单晶中碳、氧含量的测定提供了科学依据和技术支持。这项标准不仅帮助半导体行业提高了产品质量,还推动了行业的标准化进程。未来,随着技术的不断进步,相信该标准将在更广泛的领域内发挥更大的作用。

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