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摘要:本文件规定了电磁屏蔽膜用化学镀铜溶液中镍离子和铜离子含量的测定方法。本文件适用于电磁屏蔽膜生产过程中化学镀铜溶液的质量控制及相关检测。
Title:Determination of Nickel and Copper Ion Content in Electroless Copper Plating Solution for Electromagnetic Shielding Films
中国标准分类号:H65
国际标准分类号:25.220.20
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拓展解读
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GBT 27581-2011标准主要用于规范电磁屏蔽膜化学镀铜溶液中镍离子和铜离子含量的测定方法。该标准为相关行业提供了统一的技术依据,确保测试结果的准确性和可比性。
采集样品时需注意以下几点:
标准中推荐使用电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)进行测定。此外,也可采用原子吸收光谱法(AAS)作为备选方法。具体选择取决于实验室设备条件及精度要求。
为了减少干扰,应注意以下事项:
是的,测定结果可能受到多种因素影响,例如背景信号、基体效应等。因此,通常需要通过空白试验、标准曲线等方式对数据进行修正,以提高准确性。
根据GB/T 27581-2011的规定,镍离子和铜离子的检测限分别为:
- 镍离子:≤0.1 mg/L
- 铜离子:≤0.1 mg/L
当测定值超出标准范围时,应采取以下措施:
虽然标准推荐了ICP-OES和AAS方法,但在某些特殊情况下,也可以使用其他经过验证的方法。但这些方法需满足以下条件:
测定结果应以mg/L为单位报告,并注明使用的测定方法。同时,还需附上必要的不确定度信息,以便使用者全面了解结果的可靠性。
定期校准仪器是为了确保其性能稳定,避免因仪器老化或漂移导致测定结果不准确。建议每季度至少进行一次校准,并记录相关数据。