资源简介
摘要:本文件规定了用直流四探针法测量锗单晶电阻率的方法、设备要求、试样制备及测试步骤。本文件适用于锗单晶材料电阻率的测量,尤其适用于电阻率范围在10^-4 Ω·m至10^2 Ω·m之间的锗单晶。
Title:Methods for measuring resistivity of germanium single crystal by DC four-point probe
中国标准分类号:H52
国际标准分类号:25.160
封面预览
拓展解读
以下是关于 GBT 26074-2010 锗单晶电阻率直流四探针测量方法 的常见问题及其详细解答。
GBT 26074-2010 是中国国家标准,规定了用直流四探针法测量锗单晶电阻率的方法。该标准适用于锗单晶材料的电阻率测试,为半导体器件制造提供了重要的技术依据。
直流四探针法的核心原理是通过在样品表面放置四个探针,其中两个用于注入电流,另外两个用于检测电压降。根据欧姆定律和样品几何尺寸,可以计算出样品的电阻率。其公式为:ρ = (π / ln(2)) × (V / I) × d²
,其中 ρ 表示电阻率,V 表示电压降,I 表示注入电流,d 表示探针间距。
使用四个探针的主要原因是:
探针间距的选择直接影响测量结果的准确性。根据 GBT 26074-2010 标准,推荐的探针间距应满足以下条件:
校准是保证测量准确性的关键步骤,具体步骤如下:
测量过程中可能遇到的误差包括:
是的,样品预处理非常重要:
是的,样品尺寸对测量结果有显著影响。根据标准要求,样品的长度和宽度应至少为探针间距的 10 倍以上,以确保测量区域内的电流分布均匀。如果样品尺寸过小,则可能导致边缘效应,影响测量精度。
虽然直流四探针法最初设计用于锗单晶,但经过适当调整后也可用于其他半导体材料(如硅)。不过,不同材料的电学特性可能存在差异,因此需要重新验证测量参数和方法。
测量完成后,应按以下步骤记录和报告结果: