SJT 10584-1994 微电子学光掩蔽技术术语

主要内容

SJT 10584-1994《微电子学光掩蔽技术术语》是一部规范性文件，主要定义了与微电子学光掩蔽技术相关的专业术语及其解释。该标准旨在为相关领域的研究、设计、生产和应用提供统一的术语和定义。

• 术语范围：涵盖了光掩蔽技术的基本概念、工艺流程、设备工具以及相关的材料特性。
• 标准化定义：对光掩蔽技术中涉及的关键术语进行了详细的定义，包括曝光技术、掩膜版制作、光学系统等。
• 适用领域：适用于微电子制造、半导体工业及相关科研机构。

与老版本的变化

与早期版本相比，SJT 10584-1994在内容和结构上进行了优化和更新，具体变化如下：

• 新增术语：
  • 增加了近年来发展迅速的技术术语，如激光直写技术。
  • 补充了新型材料相关的专业词汇。
• 术语修订：
  • 对部分原有术语的定义进行了细化和调整，使其更加精确。
  • 修正了一些过时或不准确的描述。
• 结构调整：
  • 重新组织了章节结构，使内容更具逻辑性和条理性。
  • 增加了索引部分，便于用户快速查找所需术语。