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摘要:本文件规定了用X射线衍射法测定硅片参考面结晶学取向的方法。本文件适用于单晶硅片和多晶硅片的结晶学取向测定,主要用于半导体、光伏等领域的硅材料质量控制。
Title:Test Method for X-ray Determination of Crystallographic Orientation of Silicon Wafer Reference Surface
中国标准分类号:J72
国际标准分类号:25.160.40
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拓展解读
GBT 13388-2009 是一项关于硅片参考面结晶学取向的X射线测试方法的国家标准。这项标准为半导体材料的精确检测提供了科学依据,广泛应用于电子工业和材料科学领域。
本标准的核心在于通过X射线衍射技术来确定硅片表面的结晶学取向。这一过程不仅需要高精度的仪器支持,还需要对材料特性有深刻的理解。以下是该标准的主要内容和应用特点。
以上步骤体现了GBT 13388-2009 的系统性和规范性,确保了测试结果的可靠性和可重复性。
GBT 13388-2009 不仅是一项技术标准,更是推动半导体行业发展的关键工具。其严谨的论证和创新的方法为相关领域的研究者提供了宝贵的指导。