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摘要:本文件规定了真空镀膜设备的术语和定义、基本参数、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于各种类型的真空镀膜设备,包括但不限于蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜设备。
Title:General Technical Requirements for Vacuum Coating Equipment
中国标准分类号:J25
国际标准分类号:25.220
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拓展解读
GBT 11164-1999 是中国国家标准,规定了真空镀膜设备的设计、制造、检验和验收的基本要求。以下是关于该标准的一些常见问题及解答。
该标准适用于以物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)为主要工艺的真空镀膜设备。它涵盖了单腔室和多腔室的设备,主要用于金属、陶瓷、塑料等材料表面处理。
根据 GBT 11164-1999,主要性能指标包括:
真空系统是真空镀膜设备的核心部分之一,必须符合以下要求:
均匀性的评估通常通过以下方法进行:
安全性是设备设计的重要考量,标准中明确要求:
设备验收时需检查以下内容:
并非所有类型的真空镀膜设备都适用此标准。标准主要针对物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)设备。对于其他类型的镀膜设备,可能需要参考其他相关标准。
为了延长设备寿命并保持其性能,建议:
如果设备未能达到标准要求,应采取以下措施:
标准会根据技术发展和实际应用情况定期修订。虽然 GBT 11164-1999 已经实施多年,但用户仍需关注最新版本,以确保设备符合最新的技术要求。