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  • GB 8762.4-1988 荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量测定 发射光谱法

    GB 8762.4-1988 荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量测定 发射光谱法
    荧光级氧化钇发射光谱法氧化铁氧化铅氧化镍
    17 浏览2025-06-09 更新pdf0.1MB 未评分
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    摘要:本文件规定了用发射光谱法测定荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量的方法。本文件适用于荧光级氧化钇材料中铁、铅、镍和铜杂质含量的测定。
    Title:Determination of Iron Oxide, Lead Oxide, Nickel Oxide and Copper Oxide in Yttrium Oxide (Fluorescent Grade) by Emission Spectroscopy
    中国标准分类号:H41
    国际标准分类号:71.060.10

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    GB 8762.4-1988 荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量测定 发射光谱法
  • 拓展解读

    常见问题解答 (FAQ)

    以下是关于“GB 8762.4-1988 荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜量测定 发射光谱法”的常见问题及其详细解答。

    1. GB 8762.4-1988 标准的主要内容是什么?

    GB 8762.4-1988 是一项国家标准,用于测定荧光级氧化钇中氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜的含量。该标准通过发射光谱法实现精确测量,适用于工业生产和质量控制领域。

    2. 什么是发射光谱法?

    发射光谱法是一种分析技术,通过激发样品中的元素使其发出特定波长的光,然后根据光谱特征来定量或定性分析元素成分。在本标准中,发射光谱法被用来检测荧光级氧化钇中的金属氧化物含量。

    3. 为什么需要测定这些金属氧化物的含量?

    • 氧化铁、氧化铅、氧化镍和氧化铜等杂质会影响荧光级氧化钇的光学性能和纯度。
    • 严格控制这些杂质的含量可以提高产品的质量和稳定性。
    • 这些数据对于生产工艺优化和产品应用至关重要。

    4. 发射光谱法的原理是什么?

    发射光谱法的基本原理是:当样品受到能量激发(如电弧或火花)时,其中的原子会跃迁至高能态并释放出特征光谱。通过检测这些光谱线的强度,可以计算出目标元素的含量。

    5. 使用该方法测定的结果是否准确可靠?

    是的,发射光谱法具有较高的灵敏度和准确性。只要严格按照标准操作规程进行实验,结果可以满足工业和科研需求。然而,仪器校准和样品制备的质量对结果影响较大。

    6. 如何制备符合要求的样品?

    • 样品需充分研磨至细粉状态,以保证均匀性和代表性。
    • 避免样品受到污染或氧化。
    • 样品应与标准样品保持一致的物理形态。

    7. 发射光谱法有哪些局限性?

    • 对某些复杂基体的干扰可能难以完全消除。
    • 需要定期校准仪器以确保测量精度。
    • 对于痕量元素的检测,可能需要更先进的设备支持。

    8. 是否有其他替代方法可以测定这些金属氧化物?

    除了发射光谱法,还可以采用化学滴定法或原子吸收光谱法等技术。但这些方法各有优缺点,在实际应用中需根据具体需求选择合适的方法。

    9. 如果检测结果超出标准限值怎么办?

    如果检测结果显示某项指标超出标准限值,则需要重新检查样品制备过程、仪器校准情况以及操作步骤是否正确。必要时,可重复检测或调整生产工艺以降低杂质含量。

    10. GB 8762.4-1988 是否适用于所有类型的氧化钇?

    该标准主要针对荧光级氧化钇,不适用于其他用途的氧化钇。不同用途的产品可能需要不同的检测标准和方法。

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