TCACM 1374.83-2021 灵芝（赤芝）规范化生产技术规程

今天我想和大家聊聊《TCACM 1374.83-2021灵芝（赤芝）规范化生产技术规程》中关于“栽培基质处理”这一条的重要变化。

在旧版标准中，对于栽培基质的处理要求相对简单，仅提及需要进行消毒处理。而在新版标准中，则明确规定了具体的处理方法：首先将基质在阳光下暴晒2至3天，然后使用浓度为0.1%的高锰酸钾溶液浸泡6小时，最后沥干水分备用。

这样的改动实际上是基于近年来灵芝种植实践中的经验总结。通过阳光暴晒可以有效杀灭部分病菌和虫卵，而高锰酸钾溶液则能进一步深度杀菌，确保栽培环境的安全性。这种双重处理方式大大降低了病害发生的风险，有助于提高灵芝的成活率和品质。

在实际操作时，需要注意的是，暴晒时间不宜过长以免基质失水过多影响后续生长；浸泡过程中要保证溶液完全覆盖基质，并且控制好浸泡时间，避免浓度过高对基质成分造成破坏。处理后的基质应放置在通风良好的地方沥干，直至表面不再滴水即可。

这项改动体现了新版标准更加科学严谨的态度，也为灵芝种植者提供了更可靠的操作指南。希望大家能够严格按照新标准执行，以获得更好的种植效果。