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摘要:本文件规定了光学薄膜用铌靶的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于采用平面磁控溅射法制备光学薄膜用的铌靶材。
Title:Plane Magnetron Sputtering Targets for Optical Films - Niobium Targets
中国标准分类号:H41
国际标准分类号:25.220.30
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拓展解读
什么是 YST 718-2009 标准?
YST 718-2009 是中国国家标准化管理委员会发布的关于平面磁控溅射靶材的技术标准,主要用于规范光学薄膜用铌靶的生产、检验和应用要求。
铌靶在光学薄膜中的作用是什么?
铌靶是一种高纯度金属靶材,通过磁控溅射技术沉积在基底上形成光学薄膜。这种薄膜具有高折射率特性,广泛应用于光学器件(如滤光片、镜片等)中,以实现特定的光学性能。
如何选择适合的铌靶规格?
铌靶的纯度对光学薄膜质量有何影响?
铌靶的纯度直接影响薄膜的光学性能和均匀性。高纯度铌靶可以减少杂质引起的散射效应,提高薄膜的透射率和反射率一致性。
磁控溅射过程中如何避免铌靶的氧化?
Nb 靶材的主要化学成分有哪些?
Nb 靶材的主要成分为铌(Nb),通常含有少量的杂质元素(如氧、氮、碳等)。这些杂质含量需符合 YST 718-2009 标准的规定。
如何判断铌靶是否达到合格标准?
铌靶的使用寿命受哪些因素影响?
铌靶的储存和运输需要注意什么?
如果发现铌靶表面有划痕或裂纹怎么办?
轻微划痕可以通过抛光修复;若出现严重裂纹,则需更换新的靶材,以免影响溅射质量和效率。