TTCH 002-2022 废湿电子化学品再生液 光刻胶稀释剂

摘要：本文件规定了废湿电子化学品再生液（光刻胶稀释剂）的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等内容。本文件适用于废湿电子化学品中光刻胶稀释剂的再生处理与利用。
Title：Regenerated Liquid of Waste Wet Electronic Chemicals - Photoresist Diluent
中国标准分类号：X74
国际标准分类号：13.030.40

近年来，随着半导体和显示面板产业的快速发展，废湿电子化学品的再生利用成为行业关注的重点。在这一背景下，中国工业合作协会发布的TTCH 002-2022《废湿电子化学品再生液 光刻胶稀释剂》标准备受瞩目。本文将聚焦于该标准中新旧版本的重要差异之一——“光刻胶稀释剂中有机溶剂含量的测定方法”，从技术应用的角度展开详细解读。

### 背景与意义

光刻胶稀释剂是半导体制造过程中不可或缺的材料，其性能直接影响到光刻工艺的质量。然而，在实际使用后产生的废液中含有多种有机溶剂，这些成分如果处理不当可能对环境造成严重污染。因此，准确测定废液中的有机溶剂含量对于资源回收利用及环境保护具有重要意义。

### 新旧版本差异分析

在TTCH 002-2022版本中，对光刻胶稀释剂中有机溶剂含量的测定方法进行了优化升级。相较于旧版标准，新版采用了更为精确且操作简便的方法——气相色谱法（GC）。这种方法通过分离并定量检测样品中的各组分，能够更准确地反映废液的真实组成情况。

具体来说，新标准明确了以下几点：

1. **仪器设备要求**：需使用配备火焰离子化检测器(FID)的气相色谱仪，并确保仪器处于良好工作状态。

2. **样品准备**：取适量待测样品置于干净容器内，避免外界杂质干扰。

3. **测试条件设定**：包括进样量、柱温、载气流速等参数的具体数值均有所调整，以适应不同类型光刻胶稀释剂的特点。

4. **结果计算公式**：基于保留时间定性分析目标物质，并利用峰面积定量计算其浓度值。

### 应用实例解析

假设某企业需要对其生产过程中产生的光刻胶稀释剂废液进行检测。按照上述方法步骤，首先采集一定体积的样品，然后按照规定的条件运行气相色谱仪。假设得到的色谱图显示存在甲苯、异丙醇等多个特征峰，则可以依据各自的保留时间和标准曲线来确定每种有机溶剂的实际含量。

例如，若甲苯的标准曲线为y=10x+0.5（其中y代表峰面积，x表示质量浓度），而实测样品中甲苯对应的峰面积为25，则可计算得出其浓度约为2.45mg/mL。重复此过程即可获得所有相关组分的数据，从而全面了解废液的组成状况。

### 结论

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