TGVS 017-2024 连续式光学磁控溅射镀膜设备

连续式光学磁控溅射镀膜设备标准（TGVS 017-2024）相较于旧版标准，在技术要求和测试方法上进行了多项改进。本文将聚焦于新标准中关于设备真空室密封性能评估这一关键变化，进行深入解析。

在旧版标准中，对于真空室密封性的检测仅限于简单的气密性试验，并未明确规定具体的检测压力与保压时间。而在新版标准中，明确了真空室的密封性能需通过氦质谱检漏仪进行定量检测，且规定了检测时的极限残余气体压力不得超过5×10⁻⁴Pa，同时要求保压时间为2小时。此改动旨在提高检测结果的准确性和可靠性，确保设备在高真空环境下工作的稳定性。

应用这种方法时，首先需要对真空室进行全面清洁并完成所有装配工作后，再将其连接至氦质谱检漏仪。启动设备抽真空至目标压力值，稳定后记录数据，然后关闭泵系统开始保压计时。在整个保压期间，应密切监控压力变化情况，如果发现压力上升超出允许范围，则表明存在泄漏点，需立即查找原因并修复。

这种改进不仅提升了设备运行的安全性，还为后续维护提供了明确的技术依据。通过采用更为精确的检测手段，可以有效预防因密封不良导致的工艺参数波动问题，从而保证涂层质量的一致性和可靠性。因此，在实际操作过程中，严格按照新版标准的要求执行真空室密封性能测试至关重要。