资源简介
摘要:本文件规定了用间隙氧含量减少法测定硅片氧沉淀特性的方法。本文件适用于硅片中氧沉淀特性分析,用于评估热处理过程中硅材料的性能变化。
Title:Determination of oxygen precipitation characteristics of silicon wafers - Method of reduction of interstitial oxygen content
中国标准分类号:H32
国际标准分类号:25.160
封面预览
拓展解读
在遵守GBT 19444-2004标准核心原则的基础上,通过灵活调整和优化流程,可以有效降低测试成本并提高效率。以下是针对核心业务环节提出的10项弹性方案。