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    TZSA 38-2020 SiC晶片的残余应力检测方法
    SiC晶片残余应力检测方法半导体材料晶体质量
    15 浏览2025-06-02 更新pdf1.24MB 未评分
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    摘要:本文件规定了SiC晶片的残余应力检测方法,包括测试原理、设备要求、样品制备、测试步骤和结果分析。本文件适用于4H-SiC和6H-SiC单晶晶片的残余应力评估。
    Title:Detection Method for Residual Stress of SiC Wafers
    中国标准分类号:L80
    国际标准分类号:25.160

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    TZSA 38-2020 SiC晶片的残余应力检测方法
  • 拓展解读

    TZSA 38-2020标准为碳化硅(SiC)晶片的残余应力检测提供了详细的指导。该标准主要采用X射线衍射法进行检测,这是一种非破坏性、高精度的方法。

    首先,需要准备样品。确保SiC晶片表面清洁无污染,避免影响测量结果。样品应具有足够的平整度和均匀性。

    接着,按照标准要求设置X射线衍射仪。包括选择合适的X射线源、滤波器以及探测器,并调整好扫描角度范围和步长。通常情况下,2θ角范围设定在30°到90°之间,步长为0.01°至0.1°。

    然后开始数据采集。将样品放置于仪器中,启动X射线源,记录下不同角度下的衍射强度变化情况。整个过程中需保持环境稳定,防止外界干扰。

    数据分析是关键步骤之一。通过计算布拉格方程来确定晶面间距的变化,进而推导出残余应力值。标准提供了具体的计算公式和图表,用于帮助完成这一过程。

    最后,根据所得数据评估SiC晶片的质量状况。如果发现残余应力超出允许范围,则需对生产工艺进行相应调整以改善产品质量。

    值得注意的是,在实际操作时还需遵循相关安全规范,比如佩戴适当的个人防护装备,确保设备正常运行等。此外,定期校准仪器也是保证检测结果准确性的必要措施。

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