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    TZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材
    氧化锌铝磁控溅射靶材半导体薄膜光电材料
    14 浏览2025-06-02 更新pdf0.51MB 未评分
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    摘要:本文件规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于以氧化锌铝为主要成分,通过磁控溅射工艺制备薄膜的靶材,广泛应用于半导体、光电材料等领域。
    Title:Technical Specification for Zinc Oxide Aluminum Magnetron Sputtering Targets
    中国标准分类号:H45
    国际标准分类号:25.160

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    TZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材
  • 拓展解读

    氧化锌铝磁控溅射靶材是现代电子工业中一种重要的功能材料,广泛应用于薄膜太阳能电池、平板显示器以及半导体器件等领域。TZZB 0639-2018标准为这种靶材的质量控制提供了技术依据和规范要求。

    该标准详细规定了氧化锌铝(AZO)磁控溅射靶材的技术指标,包括化学成分、密度、晶粒结构等关键参数。其中,氧化锌与氧化铝的比例直接影响靶材的导电性和透光性,这是其在光伏和显示领域应用的核心性能指标。标准要求氧化锌含量应在90%至98%之间,氧化铝含量则应保持在2%至10%,以确保最佳的光电转换效率。

    此外,靶材的密度不得低于理论密度的95%,并且需要具备良好的均匀性和稳定性,以保证沉积薄膜的一致性。标准还对靶材的表面质量和加工精度提出了严格要求,例如表面粗糙度应小于0.5微米,尺寸公差需控制在±0.5毫米以内。

    在生产过程中,为了达到这些高标准,企业通常采用先进的粉末冶金技术和精密的烧结工艺。通过优化烧结温度和时间,可以有效提高靶材的密度和机械强度。同时,严格的原材料筛选和质量监控也是确保产品符合标准的重要环节。

    总之,TZZB 0639-2018标准不仅为企业提供了明确的产品质量指导,也为推动相关行业技术进步起到了积极作用。遵循这一标准生产的氧化锌铝磁控溅射靶材,在提升各类电子器件性能方面发挥着不可替代的作用。

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