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  • 单晶硅片制绒不均匀性对PECVD的影响-杜俊霖

    单晶硅片制绒不均匀性对PECVD的影响-杜俊霖
    单晶硅片制绒不均匀性PECVD表面形貌薄膜沉积
    2048 浏览2025-08-14 更新pdf2.47MB 共13页未评分
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    《单晶硅片制绒不均匀性对PECVD的影响-杜俊霖(共13页)》是一篇关于单晶硅片制绒工艺与等离子体增强化学气相沉积(PECVD)之间关系的研究论文。文章主要探讨了单晶硅片在制绒过程中出现的表面不均匀性对后续PECVD工艺性能的影响。制绒是太阳能电池制造中的关键步骤,用于增加硅片表面的光吸收能力,而其质量直接影响到后续薄膜沉积的效果。

    研究指出,单晶硅片表面的微观结构和形貌差异会导致PECVD过程中气体反应的不均匀分布,从而影响薄膜的厚度、均匀性和电学性能。作者通过实验分析了不同制绒条件下硅片表面的形貌特征,并结合PECVD工艺参数进行了系统研究。结果表明,制绒不均匀性会显著降低薄膜的质量,导致电池效率下降。

    文章还讨论了如何通过优化制绒工艺来改善PECVD的沉积效果,例如调整制绒时间、溶液浓度以及蚀刻条件等。这些改进措施有助于提高薄膜的均匀性和稳定性,从而提升太阳能电池的整体性能。此外,作者还提出了进一步研究的方向,包括对不同材料体系下制绒与PECVD相互作用的深入分析。

    该论文为光伏产业中单晶硅片制备和薄膜沉积工艺提供了重要的理论依据和技术参考,对于提高太阳能电池的生产效率和产品质量具有重要意义。



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