现行 YS/T 719-2009
平面磁控溅射靶材　光学薄膜用硅靶 平面磁控溅射靶材　光学薄膜用硅靶 Flat magneting sputtering target—Silicon target for optical coating
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-有色金属
CCS分类： H63冶金 - 有色金属及其合金产品 - 稀有高熔点金属及其合金
ICS分类： 77.150.99有色金属产品 - 其他有色金属产品
研制信息

归口单位： 全国有色金属标准化技术委员会

起草单位： 利达光电股份有限公司

起草人： 李智超、 杨太礼、 付勇、 段玉玲、 张向东、 赵伦

标准简介

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材

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最后更新时间 2025-08-31