现行 JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
发布日期：2012-12-28
实施日期：2013-06-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-建材
CCS分类： C14医药、卫生、劳动保护 - 医药 - 解热镇痛、麻醉与中枢神经系统用药
ICS分类： 71.040化工技术 - 分析化学
研制信息

归口单位： 全国工业陶瓷标准化技术委员会

起草单位： 中国科学院上海硅酸盐研究所

起草人： 陈奕睿、 屈海云

标准简介

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱（ICP-AES）法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光（CMP）中抛光液用的各种硅溶胶

相似标准/计划/法规
半导体等离子体耦合电感杂质

最后更新时间 2025-09-02