现行 YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-有色金属
CCS分类： H68冶金 - 有色金属及其合金产品 - 贵金属及其合金
ICS分类： 77.150.99有色金属产品 - 其他有色金属产品
研制信息

归口单位： 全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

起草单位： 有研亿金新材料股份有限公司

起草人： 张涛、 何金江、 丁照崇、 万小勇、 徐建卫、 廖赞、 尚再艳、 王欣平、 熊晓东、 吕保国

标准简介

本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用

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电子纯度杂质薄膜含量

最后更新时间 2025-09-02