现行 SJ/T 11507-2015
集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 Oxide coating etching buffer for integrated circuit
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
分类信息
研制信息

归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位: 江阴润玛电子材料股份有限公司、 工业和信息化部定子工业标准化研究院

起草人: 戈士勇、 何珂、 王周霞、 王香、 裴会川

标准简介

本标准规定了集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液的技术指标和检测方法

相似标准/计划/法规
集成电路缓冲腐蚀氧化

最后更新时间 2025-09-02