现行 SJ/T 11492-2015
光致发光法测定磷镓砷晶片的组分 光致发光法测定磷镓砷晶片的组分 Test methods for measurement of composition of gallium arsenide phosphide wafers by photoluminescence
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
分类信息
研制信息

归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位: 信息产业专用材料质量监督检验中心、 工业和信息化部电子工业标准化研究院、 中国科学院半导体研究所、 苏州晶瑞化学有限公司、 天津中环领先材料技术有限公司

起草人: 李静、 金鹏、 何秀坤、 刘兵、 李翔、 付雪涛

标准简介

本标准规定了采用光致发光测试系统对表面经过处理的磷镓砷(GaAs1-xPx)晶片组分进行测试的方法

相似标准/计划/法规
SJ/T 11490-2015
低位错密度砷化镓抛光片蚀坑密度的测量方法
Test method for measuring etch pit density (EPD) in low dislocation density gallium arsenide wafers
2015-04-30
组分晶片发光法测定磷镓砷

最后更新时间 2025-09-02