现行 SJ/T 11503-2015
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法 Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： H83冶金 - 半金属与半导体材料 - 化合物半导体材料
ICS分类： 29.045电气工程 - 半导体材料
研制信息

归口单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位： 中国电子科技集团公司第四十六研究所、 北京天科合达蓝光半导体有限公司、 工业和信息化部电子工业标准化研究院

起草人： 丁丽、 何友琴、 郑红军

标准简介

本标准规定了用表面轮廓仪和原子力显微镜测定碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法

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最后更新时间 2025-09-02