现行 SJ/T 31080-2016
光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法 光掩模制作用图形发生器完好要求和检查评定方法 Pattern generator for photomask making requirements of readiness and methods of inspection assessment
发布日期:2016-01-15
实施日期:2016-06-01
分类信息
研制信息

归口单位: 中国电子技术标准化研究院

起草单位: 中国电子科技集团公司第十三研究所、 中国电子节能技术协会、 中国电子科技集团公司第五十四研究所

起草人: 张倩、 石少青、 辛士卓、 朱石平、 王丽英、 侯文明、 田伟、 严海若

标准简介

规定了光掩模制作用图形发生器的完好要求和检查评定方法

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最后更新时间 2025-09-02