现行 SJ 21168-2016
MEMS惯性器件金属薄膜生长工艺技术要求 MEMS惯性器件金属薄膜生长工艺技术要求
发布日期：
实施日期：2017-03-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： L15电子元器件与信息技术 - 电子元件 - 敏感元器件及传感器
ICS分类： 31.070电子学 - 敏感元件和传感器
标准简介

本标准规定了MEMS惯性器件制造过程中金属薄膜生长的工艺流程、工艺要求和检验要求。本标准适用于圆片上金属薄膜（铝、铬/金、铬/铂/金、钛/金、钛/铂/金）生长的工艺

相似标准/计划/法规
SJ 21170-2016
MEMS惯性器件介质薄膜生长工艺技术要求
惯性薄膜工艺技术器件生长

最后更新时间 2025-09-02