现行 SJ 21199-2016
卧式等离子增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法 卧式等离子增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法
发布日期：
实施日期：2017-03-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： L95电子元器件与信息技术 - 电子工业生产设备 - 电子工业生产设备综合
ICS分类： 31.240电子学 - 电子设备用机械构件
标准简介

本标准规定了卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺性能的验证方法。本标准适用于卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备(以下简称PECVD设备)工艺性能的验证

相似标准/计划/法规
T/CPIA 0065-2024
异质结电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备
2024-03-10
SJ/T 11829.2-2022
晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备 第2部分：板式PECVD设备
2022-10-20
SJ/T 11829.1-2022
晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积（PECVD）设备 第1部分：管式PECVD设备
2022-10-20
化学卧式等离子气相验证

最后更新时间 2025-09-02