归口单位: 工业和信息化部电子第四研究院
起草单位: 中国电子科技集团公司第二十九研究所、 中国电子科技集团公司第十研究所
起草人: 卢茜、 陆吟泉、 董东、 王辉、 伍艺龙、 庞婷、 马汉增、 刘俊超
本指导性技术文件规定了系统级封装(SiP)产品中芯片叠层工艺设计的一般要求以及结构、材料和工艺设计的详细要求。本指导性技术文件适用于SiP产品中使用粘接工艺进行芯片堆叠的芯片叠层工艺设计,不适用于通过穿硅通孔以及凸点焊接等其他互连方式实现的芯片堆叠结构
最后更新时间 2025-09-02