归口单位: 工业和信息化部电子第四研究院
起草单位: 中国电子科技集团公司第十三研究所、 中国电子科技集团公司第二研究所、 中国电子科技集团公司第十四研究所、 中国电子科技集团公司第五十五研究所
起草人: 毕大鹏、 刘曼曼、 程换丽、 冀春峰、 李丽霞、 张世平、 王亮、 游韬、 唐利锋
本标准规定了多层共烧陶瓷的生瓷片通孔填充工艺的工艺环境、材料、设备、人员、安全、工艺流程、工艺控制和质量检验要求。本标准适用于高温共烧陶瓷(HTCC)和低温共烧陶瓷(LTCC)的生瓷片通孔填充工艺
最后更新时间 2025-09-02