现行 SJ 21254-2018
双面光刻机工艺验证方法 双面光刻机工艺验证方法 Technological verification procedures for double side mask aligner
发布日期：2018-01-18
实施日期：2018-05-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： L95电子元器件与信息技术 - 电子工业生产设备 - 电子工业生产设备综合
ICS分类： 31.260电子学 - 光电子学、激光设备
研制信息

归口单位： 工业和信息化部电子第四研究院

起草单位： 中国电子科技集团公司第四十五研究所

起草人： 孙明睿、 班万财、 杨晓静

标准简介

本标准规定了双面光刻机工艺验证的一般要求、验证条件、验证方法等内容。本标准适用于双面光刻机(以下简称光刻机)工艺性能的验证

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光刻机工验证方法

最后更新时间 2025-09-02