归口单位: 工业和信息化部电子第四研究院
起草单位: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
起草人: 佘鹏程、 陈特超、 张赛、 胡凡
本标准规定了溅射镀膜设备工艺验证的一般要求、验证条件和验证方法等内容。本标准适用于离子束溅射及磁控溅射镀膜设备(以下简称镀膜设备)工艺性能的验证
最后更新时间 2025-09-02