归口单位: 工业和信息化部电子第四研究院
起草单位: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
起草人: 巩小亮、 魏唯、 毛朝斌、 范迎新
本标准规定了金属有机物化学气相淀积(MOCVD)设备工艺验证的一般要求、试验条件和验证方法等内容。本标准适用于金属有机会化学气相淀积设备(以下简称MOCVD设备)工艺性能的验证
最后更新时间 2025-09-02