归口单位: 工业和信息化部电子第四研究院
起草单位: 中国电子科技集团公司第十四研究所、 中国电子科技集团公司第二研究所、 中国电子科技集团公司第十三研究所、 中国电子科技集团公司第五十五研究所
起草人: 候清健、 胡永芳、 游韬、 谢廉忠、 周建华、 严伟、 孙兆军、 晁宇晴、 刘曼曼、 曹坤
本标准规定了高温多层共烧陶瓷生瓷片和低温多层共烧陶瓷生瓷片在进行膜工艺时应遵循的环境、材料、设备、人员、安全、工艺流程、工艺控制和质量检验要求。本标准适用于无框工艺中高温多层共烧陶瓷生瓷片和低温多层共烧陶瓷生瓷片(以下简称生瓷片)贴膜和揭膜工艺过程
最后更新时间 2025-09-02