现行 SJ 21382-2018
离子注入均匀性测试方法 离子注入均匀性测试方法 Test method for the ion implantation uniformity
发布日期:2018-01-18
实施日期:2018-05-01
分类信息
研制信息

归口单位: 工业和信息化电子第四研究院

起草单位: 工业和信息化电子第四研究院、 中国电子科技集团公司第二十四研究所、 中国航天集团公司第九研究院第七七一研究所、 北京燕东微电子有限公司、 中国电子科技集团第五十八研究所、 西安电子科技大学、 勤智数码科技股份有限公司

起草人: 尹航、 黄磊、 薜智民、 王晨杰、 王志宽、 张彦秀、 顾祥、 贾新章、 游海龙、 罗晓羽、 李锟、 廖昕、 赖庆华

标准简介

本标准规定了集成电路芯片制造过程中离子注入均匀性的测试方法。本标准适用于测试集成电路芯片制造过程中离子注入均匀性的测试

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最后更新时间 2025-09-02