起草单位： 中国电子科技集团公司第十四研究所
起草人： 张眯、 胡永芳、 王从香、 李浩、 牛通、 崔凯、 邓晓燕、 纪乐、 周建华
本标准规定了三维异构集成细间距微凸点制作工艺的人员、环境、安全、材料、设备和仪器等一般要求，以及三维异构集成细间距微凸点制作工艺的典型工艺流程、工序技术要求、检验要求等详细要求。本标准适用于直径范围10um～100士、间距范围为20um～200um的三维异构集成细间距微凸点的制作工艺
最后更新时间 2025-09-02