归口单位： 全国工业陶瓷标准化技术委员会
起草单位： 中国科学院上海硅酸盐研究所
起草人： 杨晓、 杨金晶、 黄政仁、 刘学建、 陈忠明、 陈健、 吴永庆、 姚秀敏、 刘桂玲、 张辉、 刘岩
本文件规定了碳化硅陶瓷制品工业计算机层析成像（CT）检测的原理、试验条件、仪器设备、样品、试验步骤、试验数据处理、试验报告。本文件适用于碳化硅陶瓷制品内部缺陷的工业CT检测，其他陶瓷材料制品内部缺陷的工业CT检测可参照使用
最后更新时间 2025-09-02