YS/T 1053-2015
电子薄膜用高纯钴靶材
High-purity cobalt sputtering target used in electronic film
2015-04-30
YS/T 893-2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High purity sputtering titanium target used in electronic film
2013-10-17
YS/T 819-2012
电子薄膜用高纯铜溅射靶材
High-purity sputtering copper target used in electronic film
2012-11-07
YS/T 1025-2015
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
2015-04-30
GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
2013-09-06
T/CNIA 0121-2021
电子工业用高纯硫酸
2021-03-19
T/CNIA 0063-2020
电子工业用高纯硝酸
2020-05-27
T/CNIA 0062-2020
电子工业用高纯氢氟酸
2020-05-27
HG/T 3587-2023
电子工业用高纯钛酸钡
2023-12-20
GB/T 18994-2014
电子工业用气体 高纯氯
Gases for electronic industry―High purity chlorine
2014-12-22
T/CASME 272-2022
电子工业用高纯氯化氢气体
2022-12-29
SJ/T 3328.1-2016
电子产品用高纯石英砂 第1部分 技术条件
2016-01-15
SJ/T 3228.2-2016
电子产品用高纯石英砂 第2部分:分析方法通则
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 2:General specification for testing methods
2016-01-15
SJ/T 3228.5-2016
电子产品用高纯石英砂 第5部分:铁的测定
High purity arenaceous quartz for used in electronics - Part 5:Determining the content of iron
2016-01-15
SJ/T 3228.6-2016
电子产品用高纯石英砂 第6部分:铜的测定
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 6 determining the content of copper
2016-01-15
SJ/T 3228.7-2016
电子产品用高纯石英砂 第7部分:铬的测定
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 7 determining the content of chromium
2016-01-15
SJ/T 3228.8-2016
电子产品用高纯石英砂 第8部分:铝的测定
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 8 determining the content of alumiuium
2016-01-15
SJ/T 3228.10-2016
电子产品用高纯石英砂 第10部分:铅的测定
High purity arenaceous quartz for used in electronics part 10 determining the content of lead
2016-01-15
T/CNIA 0117-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量阴离子含量的测定 离子色谱法
2021-03-19
SJ/T 3328.5-2016
电子产品用高纯石英砂 第5部分 铁的测定
2016-01-15