现行 XB/T 524-2023
高纯金属钇靶材 高纯金属钇靶材
发布日期:2023-12-20
实施日期:2024-07-01
分类信息
研制信息

归口单位: 工业和信息化部

标准简介

本文件适用于真空熔铸法、粉末冶金法制得的高纯金属钇靶材,主要用于电子信息、涂层和显示等领域

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最后更新时间 2025-09-02