YS/T 893-2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High purity sputtering titanium target used in electronic film
2013-10-17
T/ZZB 0093-2016
集成电路用高纯钛溅射靶材
High-purity sputtering titanium target used in integrated circuit
2016-09-10
T/QGCML 3081-2024
半导体溅射靶材高纯钛金属粉末
2024-01-31
T/CIET 722-2024
半导体用高纯溅射靶材
2024-10-23
YB/T 6142-2023
高纯钛铁
2023-12-20
YS/T 819-2012
电子薄膜用高纯铜溅射靶材
High-purity sputtering copper target used in electronic film
2012-11-07
YS/T 1025-2015
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
2015-04-30
GB/T 29658-2013
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
2013-09-06
T/ICMTIA TG0011-2022
集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材
2022-04-08
HG/T 6329-2024
高纯工业品 四氯化钛
2024-10-24
T/GPCIA 0001-2019
工业用高纯双环戊二烯
2019-12-03
T/CIECCPA 015-2023
高纯二氧化钛产品技术要求和检测方法
2023-04-10
T/GPCIA 0002-2019
工业用高纯甲基环戊二烯二聚体
2019-12-03
YS/T 891-2024
高纯钛化学分析方法 痕量元素含量的测定 辉光放电质谱法
2024-10-24
HG/T 5552～5555-2019
造纸工业用二氧化钛、土壤修复用过氧化氢、高纯氯化锶和高纯工业品硝酸（2019）
2019-12-24
DIN 65581
Aerospace; titanium-alloy close-tolerance rivets and pure-titanium collars, metric series; technical specification
航空航天公制系列钛合金紧公差铆钉和纯钛轴环；技术规格
1992-04-01
YS/T 892-2024
高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
2024-10-24
SJ 20713-1998
砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析法
Method for the determination of 12 species of impurities including copper, manganese, magnesium, vanadium, titanium in high-purity gallium used for gallium arsenide by ICP spectrometry
1998-03-18
YS/T 244.3-2008
高纯铝化学分析方法 第3部分:二安替吡啉甲烷-硫氰酸盐光度法测定钛含量
Chemical analysis methods of high purity aluminum—Part 3:Determination of titanium content by diantipyrylmethane-thiocyanate photometric method
2008-03-12
YS/T 38.2-2009
高纯镓化学分析方法 第2部分：镁、钛、铬、锰、镍、钴、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Chemical analysis methods of high pure gallium—Part 2:Determination of magnesium,titanium,chromium,manganese,nickel,cobalt,copper,zinc,cadmium,tin,lead,bismuth content—Inductively coupled plasma mass spectrometry
2009-12-04