T/CAS 304-2018
磁控溅射硅靶材及绑定靶材
2018-05-29
YS/T 1063-2015
钼靶材
Molybdenum target
2015-04-30
YS/T 1220-2018
铬靶材
Chromium target
2018-04-30
YS/T 937-2013
镍铂靶材
Nickel-platinum target
2013-10-17
T/NXCL 004-2021
旋转硅靶材
2021-11-11
T/CSRE 19001-2020
金属镱靶材
2020-11-20
YS/T 1635-2023
镍铬合金靶材
2023-12-20
YS/T 1024-2015
溅射用钽靶材
Tantalum sputtering targets
2015-04-30
YS/T 1129-2016
钨钛合金靶材
Tungsten titanium alloy sputtering target
2016-07-11
XB/T 512-2020
镝、铽金属靶材
2020-12-09
XB/T 522-2023
稀土靶材回收料
2023-12-20
YS/T 1616-2023
氧化铟锌靶材
2023-12-20
XB/T 515-2020
钪铝合金靶材
2020-12-09
JC/T 2201-2022
镀膜玻璃用靶材
2022-09-30
GB/T 44759-2024
高纯镍靶材
High purity nickel target
2024-10-26
GB/T 20510-2024
氧化铟锡靶材
Indium-tin oxide target
2024-09-29
YS/T 1235-2018
钼钛合金（MoTi）靶材
Molybdenum-titanium alloy target
2018-04-30
YS/T 826-2012
五氧化二铌靶材
Niobium pentoxide target material
2012-11-07
YS/T 1156-2016
铜铟镓硒靶材
Copper-indium-gallium selenide target
2016-07-11
YS/T 1234-2018
铬钼合金（CrMo）靶材
Chrome-molybdenum alloy target
2018-04-30