现行 SJ/T 10311-1992
低压化学气相淀积设备通用技术条件 低压化学气相淀积设备通用技术条件 Generic specification of low pressure chemical vapor deposition system
发布日期：1992-06-15
实施日期：1992-12-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： C80/89医药、卫生、劳动保护 - 消防
ICS分类： 71.120化工技术 - 化工设备
研制信息

起草单位： 国营建中机器厂

起草人： 王学忠、 刘映光

标准简介

本标准适用于卧式热壁型低压化学气相淀积设备的设计、制造及工艺应用。其它形式的LPCVD设备的研制亦应参照使用

相似标准/计划/法规
化学低压气相设备

最后更新时间 2025-08-29