现行 SJ/T 10584-1994
微电子学光掩蔽技术术语 微电子学光掩蔽技术术语 Terms of photomasking technology for microelectronics
发布日期：1994-08-08
实施日期：1994-12-01
分类信息
发布单位或类别： 中国 行业标准-电子
CCS分类： A20/39综合 - 基础标准
ICS分类： 95.020军事工程 - 军事工程、军事物资、武器
研制信息

起草单位： 电子工业部标准化研究所、 韶光电工厂

起草人： 吴保华、 于向东、 阵宝钦、 冯朝斌、 陈华龙、 廖温初

标准简介

本标准规定了微电子学光掩蔽技术的有关术语。 本标准适用于黴电子学光掩蔽技术的科研、生产、教学、贸易和技术交流

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最后更新时间 2025-08-29