起草单位: 电子工业部第二十六研究所、 中国电子技术标准化研究所
起草人: 陈运祥、 李治成、 杨龙其、 刘筠
本规范规定了五氧化二钽压电晶体膜的要求、质量保证规定和检验方法等。本规范适用于平面磁控反应性溅射法制备的M点群的五氧化二钽压电晶体膜
最后更新时间 2025-08-29