现行 SJ 20711-1998
分步投影曝光机通用规范 分步投影曝光机通用规范 General specification for step and repeat exposure systems
发布日期:1998-03-18
实施日期:1998-05-01
分类信息
研制信息

起草单位: 电子工业部第四十五研究所

起草人: 黄燕、 涂忠仁、 王加初、 赵怀科

标准简介

本标准规定了分步投影曝光机的分类、要求、质量保证规定和交货准备等。本标准适用于超大规范集成电路(VLSI)和专用集成芯片(ASIC)以及其它器件的微细光刻设备。其它类型的曝光机也可参照使用

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最后更新时间 2025-08-30